金平实,男,1955年出生,四川泸州人,博士。现任中国科学院上海硅酸盐研究所工业陶瓷研究中心主任,研究员。
人物介绍
1981年毕业于西北轻工业学院。1986年国家教委公派留日,1992年获日本名古屋工业大学电及计算机工程学博士,同年进入日本通产省工业技术院(AIST)任主任研究官,1998年任终身教授级主任研究官。
曾兼任瑞典林雪平大学物理系客座研究员,日本爱知工业大学研究生院客座教授,中科院广州能源研究所特聘首席科学家等。先后发表各类论文170余篇,著书3部,申请国外专利33项,获授权11项,受邀国际学术会议报告十余次。2009年入选中组部千人计划特聘专家。
主要研究方向为节能环保有关薄膜与纳米材料。长期从事新型智能节能窗与贴膜的基础研究及应用。
教育及工作经历:
1981年毕业于西北轻工业学院。
1986年国家教委公派留日。
1992年获日本名古屋工业大学电及计算机工程学博士。
1992年进入日本通产省工业技术院(AIST)任主任研究官。
1998年任终身教授级主任研究官。
2010年中国科学院上海硅酸盐研究所工作。
社会任职:
1. 瑞典林雪平大学物理系客座研究员。
2. 日本爱知工业大学研究生院客座教授。
3. 中科院广州能源研究所特聘首席科学家。
代表性论文
1) 1)S.-D. Ji, Y.-G. Zhao, F. Zhang, P. Jin: Direct formation of single crystal VO2(R) nanorods by one-step hydrothermal treatment, J. Crystal Growth 312(2010)282.
2) G. Xu, C.-M. Huang, M. Tazawa, P. Jin, D.-M. Chen, L.Miao: Electron injection assisted phase transition in a nano-Au-VO2 junction, Appl. Phys. Lett. 93(2008)061911.
3) S.-H. Bao, K. Tajima, Y. Yamada, P. Jin, M. Okada, K. Yoshimura: Optical property and degradation mechanism of magnesium-niobium thin film switchable mirrors,J Ceram Soc. Jpn, 116-6(2006)771.
4) 金平:特约解说:多层薄膜コーティングによる省エネ型多机能窓ガラスの开発、工业材料, Vol.55(2)(2007)83.
5) P. Jin, M. Tazawa, G. Xu: Reversible tuning of surface plasmon resonance of silver nanoparticles using a thermochromic matrix, J. Appl. Phys. 99(2006)096106.
6) G. Xu, Y. Chen, M. Tazawa, P. Jin: Influence of dielectric properties of a substrate upon plasmon resonance spectrum of supported Ag nanoparticles, Appl. Phys. Lett.88(2006)043114.
7) P. Jin, S. Nakao, S. X. Wang, L. M. Wang: Localized epitaxial growth of alpha-Al2O3 thin film on Cr2O3 template by sputter deposition at low substrate temperature, Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 1024-1026.
8) R. Wang, G. Xu, P. Jin: Size dependence of electron-phonon coupling in ZnO nanowires, Phys. Rev. B 69(2004) 113303.
9) P. Jin, G. Xu, M. Tazawa, K. Yoshimura: Design, formation and characterization of a novel multifunctional window with VO2 and TiO2 coatings, Appl. Phys. A 77(2003) 455-459.
10) P. Jin, S. Tanemura: Formation and thermochromism of VO2 films deposited by RF magnetron sputtering at low temperature, Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 1478-1483.
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